ASML เผยเทคโนโลยี High-NA EUV ด้วยความละเอียดที่ 10 nm

ยิ่งชิปมีขนาดเล็กลงเท่าไหร่ผู้ผลิตชิปยิ่งที่ต้องสรรหาวิธีการอัดแน่นการทำงานให้ละเอียดมากเท่านั้น ซึ่งคงไม่เกินจริงหากจะกล่าว่า ASML คือผู้อยู่เบื้องหลังความสำเร็จของผู้แข่งขันเหล่านั้น

ASML คือผู้สร้างเครื่องจักรสำหรับการผลิตชิป ซึ่งความยากก็คือเทคนิคในการจัดสรรอุปกรณ์ลงบนแผ่น wafer ที่ต้องใช้ระบบที่เรียกว่า photolithography หรือการยิงแสงตามรูปแบบที่ต้องการบนแผ่น wafer แต่แน่นอนว่าไม่ใช้ว่าใครก็ทำได้ด้วยความละเอียดและซับซ้อนตามเทคโนโลยีของ ASML ที่จัดจำหน่ายเครื่องจักรผลิตชิปด้วยเทคโนโลยี extreme ultraviolet lithography (EUV)

โดยล่าสุด ASML ได้เผยถึงเทคโนโลยี High-NA EUV ต้นแบบที่สามารถให้ความเข้มข้นในการพิมพ์ได้ถึงระดับ 10 nm ซึ่งคือหมุดหมายสำคัญสำหรับการพัฒนาในเทคโนโลยี photolithography แต่แน่นอนว่า High-NA EUV อาจทำได้ไกลกว่านั้นที่ 8 nm และจะกลายเป็นเครื่องมือสำหรับการผลิตชิปที่เหนือกว่า 3nm ข่าวความคืบหน้าครั้งนี้ไม่ใช่ส่งผลแค่ตลาดชิปประมวลผลเท่านั้นและยังเกี่ยวข้องกับการผลิต DRAM อีกด้วย

ที่มา : https://www.anandtech.com/show/21356/asml-patterns-first-wafer-using-highna-euv-tool-ships-second-highna-scanner