Tag Archives: Photolithography

ASML เผยเทคโนโลยี High-NA EUV ด้วยความละเอียดที่ 10 nm

ยิ่งชิปมีขนาดเล็กลงเท่าไหร่ผู้ผลิตชิปยิ่งที่ต้องสรรหาวิธีการอัดแน่นการทำงานให้ละเอียดมากเท่านั้น ซึ่งคงไม่เกินจริงหากจะกล่าว่า ASML คือผู้อยู่เบื้องหลังความสำเร็จของผู้แข่งขันเหล่านั้น

Read More »

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีน กำลังจะประสบกับปัญหาครั้งใหญ่อีกระลอก

สืบเนื่องจากญี่ปุ่นและเนเธอร์แลนด์คาดว่าจะเข้าร่วมกับสหรัฐฯ เพื่อการจำกัดการเข้าถึงเทคโนโลยีการผลิตชิปขั้นสูง  

Read More »